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特許情報


発明の名称
ヘテロ環含有キノイド化合物または高分子ならびにその製造方法および用途 
発明者
冨田育義, 福井健太, 高瀬　一郎, 池田　大次, 兼子　祐.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 株式会社ダイセル.  
出願日
2019/02/28
出願番号
特願2019-036907
公開日
2020/09/03
公開番号
特開2020-138942
備考
出願放棄

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