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特許情報


発明の名称
アニーリング処理装置、アニーリング処理方法及びプログラム 
発明者
川村一志, 劉載勲, 本村真人.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京科学大学.  
出願日
2023/01/20
出願番号
特願2023-007010
公開日
2024/08/01
公開番号
特開2024-102928

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