Wrapped alignment mark for fabrication of interference/diffraction hot electron devices

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Wrapped alignment mark for fabrication of interference/diffraction hot electron devices

著者

和文:	H. Hongo, Y. Miyamoto, J. Suzuki, M. Suhara, K. Furuya.
英文:	H. Hongo, Y. Miyamoto, J. Suzuki, M. Suhara, K. Furuya.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 37 No. 3B pp. 1518-1521

出版年月

1998年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: