高電圧・短パルス電圧印加によるイオン注入 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	高電圧・短パルス電圧印加によるイオン注入
英文:	Plasma Source Ion Implantation Using High-voltage Fast Pulse Power Generator

著者

和文:	冨澤　浩, 中島充夫, 堀岡一彦.
英文:	冨澤　浩, 中島充夫, 堀岡一彦.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電気学会パルスパワー研究会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. PPT No. 00-28-34 pp. 21

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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