A new positive-type photosensitive alkaline-developable alicyclic polyimide based on polyamic acid silyl ester as a polyimide precursor and diazonaphthoquinone as a photosensitive compound

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	A new positive-type photosensitive alkaline-developable alicyclic polyimide based on polyamic acid silyl ester as a polyimide precursor and diazonaphthoquinone as a photosensitive compound

著者

和文:	芝崎祐二.
英文:	Yuji Shibasaki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Chemistry of Materials

巻, 号, ページ

Vol. 14 No. 4 pp. 1762

出版年月

2002年

出版者

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会議名称

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開催地

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