Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:New Photoresist Materials for 157 nm Lithography. Poly[Vinylsulfonyl Fluoride-co-4(1 1 1 3 3 3-hexafluoro-2-hydroxypropyl)styrene Partially Protected with tert-Butoxycarbonyl 
著者
和文: 芝崎祐二.  
英文: Yuji Shibasaki.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Chem.Mater. 
巻, 号, ページ Vol. 15        pp. 1512
出版年月 2003年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.