高精度X線CTを用いたMEMSデバイスのリバースエンジニアリング (メタルアーチファクト低減を目的とした画像再構成アルゴリズムの提案)

論文・著書情報

タイトル

和文:	高精度X線CTを用いたMEMSデバイスのリバースエンジニアリング (メタルアーチファクト低減を目的とした画像再構成アルゴリズムの提案)
英文:	Reverse Engineering of MEMS Devices using High Precision X-ray CT (Proposal of the image reconstruction algorithm for eliminating the metal artifacts)

著者

和文:	小関道彦, 佐藤慎平, 木村仁, 伊能教夫.
英文:	Michihiko Koseki, Sinpei Sato, Hitoshi Kimura, Norio Inou.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	2006年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
英文:

巻, 号, ページ

pp. 1149-1150

出版年月

2006年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	2006年度精密工学会春季大会学術講演会
英文:

開催地

和文:	千葉
英文: