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論文・著書情報


タイトル
和文:シリコン量子ドットの表面修飾と化学構造解析 
英文: 
著者
和文: 中牟田崇史, 佐川正記, 野崎智洋, 岡崎健.  
英文: Takashi Nakamuta, Masaki Sagawa, TOMOHIRO NOZAKI, KEN OKAZAKI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第69回応用物理学会学術講演会要旨集 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2008年9月 
出版者
和文:第69回応用物理学会学術講演会 
英文: 
会議名称
和文:第69回応用物理学会学術講演会 
英文: 
開催地
和文:中部大学 
英文: 

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