Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文:極薄希土類酸化膜/Si(100)界面構造（極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術） 
英文: 
著者
和文: 野平博司, 白石 貴義, 高橋 健介, 柏木 郁未, 大島 千鶴, 大見俊一郎, 岩井洋, 城森 慎司, 中嶋 薫, 鈴木 基史, 木村 健二, 服部 健雄.  
英文: Hiroshi Nohira, 白石 貴義, 高橋 健介, 柏木 郁未, 大島 千鶴, Shun-ichiro OHMI, HIROSHI IWAI, 城森 慎司, 中嶋 薫, 鈴木 基史, 木村 健二, 服部 健雄.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:電子情報通信学会技術研究報告、SDM、シリコン材料・デバイス 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 103    No. 149    pp. 25-29
出版年月 2003年6月 
出版者
和文:電子情報通信学会 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.