Preparation of Bi-Zn-Nb-O(BZN)High-K Gate insulator by Sputtering for Oxide Channel Thin Film Transistors

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Preparation of Bi-Zn-Nb-O(BZN)High-K Gate insulator by Sputtering for Oxide Channel Thin Film Transistors

著者

和文:	徳光永輔, 近藤洋平, 大岩朝洋.
英文:	Eisuke Tokumitsu, Youhei Kondo, Tomohiro Oiwa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2010年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	16th Workshop on Dielectrics in Microelectronics(WoDiM 2010)

開催地

和文:
英文:	Blatislava, Slovakia