An Alkaline-Developable, Chemically Amplified, Negative-Type Photosensitive Poly(benzoxazole) Resist Based on Poly(o-hydroxy amide), an Active Ester-Type Crosslinker, and a Photobase Generator

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	An Alkaline-Developable, Chemically Amplified, Negative-Type Photosensitive Poly(benzoxazole) Resist Based on Poly(o-hydroxy amide), an Active Ester-Type Crosslinker, and a Photobase Generator

著者

和文:	溝口勝久, 東原知哉, 上田充.
英文:	Katsuhisa Mizoguchi, tomoya higashihara, mitsuru ueda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Macromolecules

巻, 号, ページ

Vol. 42 No. 4 pp. 1024-1030

出版年月

2009年7月

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI