Pressure and resist thickness dependency of resist time evolutions profiles in nanoimprint lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Pressure and resist thickness dependency of resist time evolutions profiles in nanoimprint lithography

著者

和文:	Y. Hirai, 大西有希, T. Tanabe, M. Shibata, T. Iwasaki, Y. Iriye.
英文:	Y. Hirai, Y. Onishi, T. Tanabe, M. Shibata, T. Iwasaki, Y. Iriye.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Microelectronic Engineering

巻, 号, ページ

Vol. 85 No. 5 pp. 842–845

出版年月

2008年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

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