Time Evolution Analysis of the Resist Profile in Thermal Nanoimprint

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Time Evolution Analysis of the Resist Profile in Thermal Nanoimprint

著者

和文:	M.Nishihata, 大西有希, T.Iwasaki, K.Okuda, Y.Iriye, Y.Hirai.
英文:	M.Nishihata, Y.Onishi, T.Iwasaki, K.Okuda, Y.Iriye, Y.Hirai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2006年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	5th Nanoprint and Nanoimprint Technology

開催地

和文:
英文: