ラジカル酸窒化法を用いたCo2FeSi/SiOxNy/Siトンネル接合の形成

論文・著書情報

タイトル

和文:	ラジカル酸窒化法を用いたCo2FeSi/SiOxNy/Siトンネル接合の形成
英文:	Formation of Co2FeSi/SiOxNy/Si tunnel junctions using radical oxinitradation technique

著者

和文:	髙村陽太, 林建吾, 周藤悠介, 菅原聡.
英文:	Yota Takamura, Kengo Hayashi, Yusuke Shuto, Satoshi Sugahara.

言語

Japanese

掲載誌/書名

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巻, 号, ページ

31p-ZS-12

出版年月

2011年9月6日

出版者

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会議名称

和文:	第72回応用物理学会学術講演会
英文:	The 72nd Fall Meeting, 2011

開催地

和文:	山形
英文:	Yamagata

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