Characterization of L21-ordered full-Heusler Co2FeSi1-xAlx alloy thin films formed by silicidation technique employing a silicon-on-insulator substrate

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of L21-ordered full-Heusler Co2FeSi1-xAlx alloy thin films formed by silicidation technique employing a silicon-on-insulator substrate

著者

和文:	佐藤充浩, 高村陽太, 菅原聡.
英文:	M. Satoh, Y. Takamura, S. Sugahara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

DD-10 p. 96

出版年月

2011年6月22日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Electronic Materials Conf. (EMC) 2011

開催地

和文:
英文:	Santa Barbara, CA