Counter-facing plasma focus system as an efficient and long-pulse EUV light source

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Counter-facing plasma focus system as an efficient and long-pulse EUV light source

著者

和文:	桑原一, 林賢志, 黒田雄介, 野瀬, 保戸塚梢, 中島充夫, 堀岡一彦.
英文:	H.Kuwabara, K.Hayashi, Y.Kuroda, H.Nose, K.Hotozuka, M.Nakajima, K.Horioka.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. SPIE 7969

巻, 号, ページ

Vol. 7969 pp. 7969R-1-8

出版年月

2011年4月7日

出版者

和文:
英文:	SPIE

会議名称

和文:
英文:	Extreme Ultraviolet Lithography II

開催地

和文:
英文:	San Joze, California

DOI