Reduction of Charge Noise in Dual-Gate Si/SiGe Quantum Point Contact

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Reduction of Charge Noise in Dual-Gate Si/SiGe Quantum Point Contact

著者

和文:	神岡純, 小寺哲夫, T.Obata, K.Takeda, ワッシームエムアクタール, 樽茶清悟, 小田俊理.
英文:	J.Kamioka, T.Kodera, T.Obata, K.Takeda, W.M.Akhtar, S.Tarucha, S.Oda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2013年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Solid State Devices and Materials Conference

開催地

和文:
英文:	Fukuoka