Characterization of In2O3 Channel Ferroelectric-Gate Thin Film Transistors

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of In2O3 Channel Ferroelectric-Gate Thin Film Transistors

著者

和文:	羽賀健一, 中田祐貴, RICINSCHI DAN, 徳光永輔.
英文:	Ken-Ichi Haga, Yuki Nakada, Dan Ricinschi, Eisuke Tokumitsu.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2014年1月23日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Thin-FilmTransistor Conference(ITC 2014)

開催地

和文:
英文:	Delft