有機系ガス暴露装置を用いたウェハ表面汚染の評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	有機系ガス暴露装置を用いたウェハ表面汚染の評価
英文:	Evaluation of organic contaminants on Si wafer surfaces by using organic gases exposure

著者

和文:	鍵直樹, 藤井修二, 湯浅和博, 田中克昌, 藪本周邦.
英文:	Naoki Kagi, 藤井修二, 湯浅和博, 田中克昌, 藪本周邦.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会予稿集
英文:

巻, 号, ページ

pp. 233-236

出版年月

1998年

出版者

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会議名称

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開催地

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