Surface assessment after removing III–V layer on III–V/silicon-on-insulator wafer fabricated by plasma activated bonding

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Surface assessment after removing III–V layer on III–V/silicon-on-insulator wafer fabricated by plasma activated bonding

著者

和文:	鈴木純一, 林侑介, 久能雄輝, 姜晙炫, 雨宮智宏, 西山伸彦, 荒井滋久.
英文:	Junichi Suzuki, Yuusuke Hayashi, Yuki Kuno, JoonHyun Kang, Tomohiro Amemiya, Nobuhiko Nishiyama, Shigehisa Arai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 53 No. 11 pp. 118003

出版年月

2014年11月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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