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論文・著書情報


タイトル
和文:側壁プロセス配線におけるカットパターン削減手法 
英文:A cut-pattern reduction method for routing in Self-Aligned Double Patterning 
著者
和文: 高橋紀之, 井原岳志, 高橋篤司.  
英文: Noriyuki Takahashi, Takeshi Ihara, Atsushi Takahashi.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2014-154) 
英文:IEICE Technical Report (VLD2014-154) 
巻, 号, ページ Vol. 114    No. 476    pp. 7-12
出版年月 2015年3月2日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:VLSI設計技術研究会 
英文:Technical Committee on VLSI Design Technologies 
開催地
和文: 
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