Spin accumulation in Si channels using CoFe/MgO/Si and CoFe/AlOx/Si tunnel contacts with high quality tunnel barriers prepared by radical-oxygen annealing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Spin accumulation in Si channels using CoFe/MgO/Si and CoFe/AlOx/Si tunnel contacts with high quality tunnel barriers prepared by radical-oxygen annealing

著者

和文:	悪七泰樹, 高村陽太, 周藤悠介, 菅原聡.
英文:	T. Akushichi, Y. Takamura, Y. Shuto, S. Sugahara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 117 No. 17 pp. 17B531/1-4

出版年月

2015年5月5日

出版者

和文:
英文:	AIP Publishing LLC

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

DOI