Characterization of magnetic thin films etch process in N2 plasmas

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of magnetic thin films etch process in N2 plasmas

著者

和文:	栗原拓哉, 佐藤道貴, 森伸介, 鈴木正昭.
英文:	Takuya Kurihara, Michitaka Sato, Shinsuke Mori, Masaaki Suzuki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proceedings of 21th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC21)

巻, 号, ページ

ID394

出版年月

2013年8月2日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	21th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC21)

開催地

和文:
英文:	Cairns