Controlling Anion Composition at Metal-Insulator-Semiconductor Interfaces on III-V Channels by Plasma Processing

論文・著書情報

タイトル

和文:	Controlling Anion Composition at Metal-Insulator-Semiconductor Interfaces on III-V Channels by Plasma Processing
英文:	Controlling Anion Composition at Metal-Insulator-Semiconductor Interfaces on III-V Channels by Plasma Processing

著者

和文:	Wipakorn Jevasuwan, Yuji Urabe, Tatsuro Maeda, Noriyuki Miyata, Tetsuji Yasuda, Akihiro Ohtake, Hisashi Yamada, Masahiko Hata, Sunghoon Lee, Takuya Hoshii, Mitsuru Takenaka, Shinichi Takagi.
英文:	Wipakorn Jevasuwan, Yuji Urabe, Tatsuro Maeda, Noriyuki Miyata, Tetsuji Yasuda, Akihiro Ohtake, Hisashi Yamada, Masahiko Hata, Sunghoon Lee, Takuya Hoshii, Mitsuru Takenaka, Shinichi Takagi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	Japanese Journal of Applied Physics
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 51 No. 6 PART 1 pp. 065701

出版年月

2012年5月

出版者

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会議名称

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開催地

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