Observation of lattice spacing fluctuation and strain undulation around through-Si vias in wafer-on-wafer structures using X-ray microbeam diffraction

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Observation of lattice spacing fluctuation and strain undulation around through-Si vias in wafer-on-wafer structures using X-ray microbeam diffraction

著者

和文:	Noriyuki Taoka, Osamu Nakatsuka, 水島賢子, Hideki Kitada, YOUNGSUK KIM, 中村友二, 大場隆之, 財満鎭明.
英文:	Noriyuki Taoka, Osamu Nakatsuka, Yoriko Mizushima, Hideki Kitada, Young Suk Kim, Tomoji Nakamura, Takayuki Ohba, Shigeaki Zaima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Volume 53

出版年月

2014年4月22日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI