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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Vacancy-type defects induced by grinding of Si wafers studied by monoenergetic 
著者
和文: 上殿 明良, 水島 賢子, YOUNGSUK KIM, 中村 友二, 大場 隆之, Nakaaki Yoshihara, 大島 永康, 鈴木 良一.  
英文: Akira Uedono, Yoriko Mizushima, Youngsuk Kim, Tomoji Nakamura, Takayuki Ohba, Nakaaki Yoshihara, Nagayasu Oshima, Ryoichi Suzuki.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Journal of Applied Physics 
巻, 号, ページ Vol. 116    134501   
出版年月 2014年 
出版者
和文: 
英文:AIP 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
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英文: 

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