Role of Interstitial Voids in Oxides on Formation and Stabilization of Reactive Radicals:  Interstitial HO2 Radicals in F2-Laser-Irradiated Amorphous SiO2

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Role of Interstitial Voids in Oxides on Formation and Stabilization of Reactive Radicals: Interstitial HO2 Radicals in F2-Laser-Irradiated Amorphous SiO2

著者

和文:	梶原浩一, 平野正浩, SKUJA LINARDS, 細野秀雄.
英文:	Koichi Kajihara, Masahiro Hirano, Linards Skuja, Hideo Hosono.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of the American Chemical Society

巻, 号, ページ

Vol. 128 No. 16 pp. 5371-5374

出版年月

2006年3月30日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI