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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Band gap-tuned MoS2(1-x)Te2x thin films synthesized by a hybrid Co-sputtering and post-deposition tellurization annealing process 
著者
和文: Y. Hibino, S. Ishihara, N. Sawamoto, 大橋 匠, 松浦 賢太朗, 町田 友樹, 若林 整, 小椋 厚志.  
英文: Y. Hibino, S. Ishihara, N. Sawamoto, T. Ohashi, K. Matsuura, H. Machida, H. Wakabayashi, A. Ogura.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Journal of Materials Research 
巻, 号, ページ Vol. 32    No. 16   
出版年月 2017年 
出版者
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会議名称
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開催地
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