Electrons and holes in a 40 nm thick silicon slab at cryogenic temperatures

論文・著書情報

タイトル

和文:	Electrons and holes in a 40 nm thick silicon slab at cryogenic temperatures
英文:	Electrons and holes in a 40 nm thick silicon slab at cryogenic temperatures

著者

和文:	Takashina, K., Nishiguchi, K., Ono, Y., Fujiwara, A., Fujisawa, T., Hirayama, Y., Muraki, K., 藤澤利正.
英文:	Takashina, K., Nishiguchi, K., Ono, Y., Fujiwara, A., Fujisawa, T., Hirayama, Y., Muraki, K., Toshimasa Fujisawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	Applied Physics Letters
英文:	Applied Physics Letters

巻, 号, ページ

Vol. 94 No. 14

出版年月

2009年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

公式リンク

DOI