キャリアドーピングによるSi(111)4xi-In表面の金属―絶縁体転移の制御 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	キャリアドーピングによるSi(111)4xi-In表面の金属―絶縁体転移の制御
英文:

著者

和文:	荻野嵩大, 山崎詩郎, 中辻寛, 平山博之.
英文:	Takahiro Ogino, 山崎詩郎, Kan Nakatsuji, HIROYUKI HIRAYAMA.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年9月21日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	日本物理学会2017年秋季大会
英文:

開催地

和文:
英文:

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