酸化ジルコニウム高温酸化皮膜の873 Kにおける成長に及ぼす電場の影響 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	酸化ジルコニウム高温酸化皮膜の873 Kにおける成長に及ぼす電場の影響
英文:

著者

和文:	河村憲一, 川田理央, 入澤恵理子.
英文:	Kenichi Kawamura, Rio Kawada, 入澤恵理子.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

# 1M07

出版年月

2018年3月9日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	電気化学会第85回大会
英文:

開催地

和文:	東京
英文:

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