TFT応用に向けたRFマグネトロンスパッタリング法によるMoS2膜の形成 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	TFT応用に向けたRFマグネトロンスパッタリング法によるMoS2膜の形成
英文:	MoS2 Film Formation by RF Magnetron Sputtering for Thin Film Transistors

著者

和文:	大橋匠.
英文:	Takumi Ohashi.

種別

種別:	学位論文(博士)審査の要旨
国名:	Japan

言語

English

学位授与組織

Tokyo Institute of Technology

報告番号

甲第10864号

学位授与日

2018/03/26

審査員

ファイル

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