Effects of heat treatment and in-situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial Y doped HfO2 film.

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effects of heat treatment and in-situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial Y doped HfO2 film.

著者

和文:	三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩.
英文:	Takanori Mimura, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 58 pp. SBBB09-1-5

出版年月

2019年2月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI