Effects of heat treatment and in situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial HfO2 based film

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effects of heat treatment and in situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial HfO2 based film

著者

和文:	三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩.
英文:	Takanori Mimura, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年9月9日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	SSDM 2018 (2018 International Conference on Solid State Devices and Materials)

開催地

和文:
英文:	Tokyo