光電子ホログラフィー法によるシリコン中にドープされた不純物の三次元原子配列構造の解析

論文・著書情報

タイトル

和文:	光電子ホログラフィー法によるシリコン中にドープされた不純物の三次元原子配列構造の解析
英文:

著者

和文:	筒井一生, 松下智裕, 室隆桂之, 森川良忠, 名取鼓太郎, 小川達博, 星井拓也, 角嶋邦之, 若林整, 林好一, 松井文彦, 木下豊彦.
英文:	KAZUO TSUTSUI, 松下智裕, 室隆桂之, 森川良忠, Kotaro Natori, Tatsuhiro Ogawa, Takuya Hoshii, Kuniyuki KAKUSHIMA, Hitoshi Wakabayashi, 林好一, 松井文彦, Toyohiko Kinoshita.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年2月28日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第216回研究集会
英文:

開催地

和文:	大阪
英文: