大面積集積化に向けたスパッタ二次元半導体 MoS2 薄膜のTop-gate nMISFETs チャネル応用

論文・著書情報

タイトル

和文:	大面積集積化に向けたスパッタ二次元半導体 MoS2 薄膜のTop-gate nMISFETs チャネル応用
英文:

著者

和文:	松浦賢太朗, 清水淳一, 外山真矢人, 大橋匠, 坂本拓朗, 宗田伊理也, 石原聖也, 角嶋邦之, 筒井一生, 小椋厚志, 若林整.
英文:	Kenntarou Matsuura, Junnichi Shimizu, Mayato Toyama, Takumi Ohashi, Takuro Sakamoto, Iriya Muneta, 石原聖也, Kuniyuki KAKUSHIMA, KAZUO TSUTSUI, 小椋厚志, Hitoshi Wakabayashi.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年2月28日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第216回研究集会
英文:

開催地

和文:	大阪
英文: