Simultaneous optimization of dose and focus controls in advanced ArF immersion scanners

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Simultaneous optimization of dose and focus controls in advanced ArF immersion scanners

著者

和文:	T. Toki, P. Izikson, J. Kosugi, N. Sakasai, K. Saotome, 鈴木一明, D. Kandel, J. Robinson, Y. Koyanagi.
英文:	T. Toki, P. Izikson, J. Kosugi, N. Sakasai, K. Saotome, Kazuaki Suzuki, D. Kandel, J. Robinson, Y. Koyanagi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proceeding of SPIE

巻, 号, ページ

Vol. 7640 pp. 764016-1-8

出版年月

2010年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	SPIE Advanced Lithography

開催地

和文:
英文:	San Jose