Investigation of proximy effect correction in electron projection lithography (EPL)

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Investigation of proximy effect correction in electron projection lithography (EPL)

著者

和文:	T. Okino, 鈴木一明, K. Okamoto, S. Kawata, K. Uchikawa, S. Suzuki, S. Shimizu, T. Fujiwara, A. Yamada, K. Kamijo.
英文:	T. Okino, Kazuaki Suzuki, K. Okamoto, S. Kawata, K. Uchikawa, S. Suzuki, S. Shimizu, T. Fujiwara, A. Yamada, K. Kamijo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proceeding of SPIE

巻, 号, ページ

Vol. 3997 pp. 235-244

出版年月

2000年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	SPIE Microlithography

開催地

和文:
英文:	Santa Clara, CA