Preparation of 1 μm-thick Y-doped HfO2 ferroelectric films on (111)Pt/TiOx/SiO2/(001)Si substrates by a sputtering method and their ferroelectric and piezoelectric properties

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Preparation of 1 μm-thick Y-doped HfO2 ferroelectric films on (111)Pt/TiOx/SiO2/(001)Si substrates by a sputtering method and their ferroelectric and piezoelectric properties

著者

和文:	志村礼司郎, 三村和仙, 舘山明紀, 清水荘雄, 山田智明, 舟窪浩.
英文:	Reijiro Shimura, Takanori Mimura, Akinori Tateyama, Takao Shimizu, Tomoaki Yamada, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

vol. 60 pp. 031009

出版年月

2021年3月

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI