Comprehensive study on the kinetic formation of the orthorhombic ferroelectric phase in epitaxial Y-doped ferroelectric HfO2 thin films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Comprehensive study on the kinetic formation of the orthorhombic ferroelectric phase in epitaxial Y-doped ferroelectric HfO2 thin films

著者

和文:	田代裕貴, 清水荘雄, 三村和仙, 舟窪浩.
英文:	Yuki Tashiro, Takao Shimizu, Takanori Mimura, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	ACS Applied Electronic Materials 2021

巻, 号, ページ

Vol. 3 No. 7 pp. 3123-3130

出版年月

2021年6月

出版者

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会議名称

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開催地

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DOI