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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Phase stability of ferroelectric HfO2-based films 
著者
和文: 舟窪 浩, 田代 裕貴, 三村 和仙, 清水 荘雄.  
英文: Hiroshi Funakubo, Yuki Tashiro, Takanori Mimura, Takao Shimizu.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2021年8月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:AWAD 2021 (2021 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices) 
開催地
和文: 
英文: 

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