室温でのエキシマレーザーアニーリングによる不純物ドープβ-Ga2O3薄膜の固相エピタキシャル成長と特性評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	室温でのエキシマレーザーアニーリングによる不純物ドープβ-Ga2O3薄膜の固相エピタキシャル成長と特性評価
英文:	Solid-phase epitaxial growth of impurity-doped β-Ga2O3 thin films by RT-excimer laser annealing

著者

和文:	沼田拓実, 甲斐稜也, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
英文:	Takumi Numata, Ryoya Kai, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2022年9月22日

出版者

和文:	応用物理学会
英文:	The Japan Society of Applied Physics

会議名称

和文:	第83回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

開催地

和文:	宮城県仙台市
英文:	Sendai

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