Evaluation of convolutional neural network for fast extreme ultraviolet lithography simulation using imec 3 nm node mask patterns

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Evaluation of convolutional neural network for fast extreme ultraviolet lithography simulation using imec 3 nm node mask patterns

著者

和文:	田邊容由, 神宮司明良, 高橋篤司.
英文:	Hiroyoshi Tanabe, Akira Jinguji, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology (JM3)

巻, 号, ページ

Vol. 22 Issue 2 024201

出版年月

2023年6月15日

出版者

和文:
英文:	Society of Photo-optical Instrumentation Engineers

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

ファイル

DOI