No-Heating deposition of ferroelectric x%Y-doped (100–x%)(Hf1−yZry)O2 films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	No-Heating deposition of ferroelectric x%Y-doped (100–x%)(Hf1−yZry)O2 films

著者

和文:	三村和仙, 志村礼司郎, 舘山明紀, Yoshiko Nakamura, 白石貴久, 舟窪浩.
英文:	Takanori Mimura, Reijiro Shimura, Akinori Tateyama, Yoshiko Nakamura, Takahisa Shiraishi, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Phys. Status Solidi A

巻, 号, ページ

2023 2300100-1-6

出版年月

2023年5月3日

出版者

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会議名称

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開催地

和文:
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DOI