Submicrometer-sized Patterning of Photoresist  by Electron Beam Projection Lithography  Using Tabletop Scanning Electron Microscope System and Si Stencil Mask

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Submicrometer-sized Patterning of Photoresist by Electron Beam Projection Lithography Using Tabletop Scanning Electron Microscope System and Si Stencil Mask

著者

和文:	佐藤美那, 遠西美重, 藤本美穂, 松谷晃宏.
英文:	Mina Sato, Mie Tohnishi, Miho Fujimoto, Akihiro Matsutani.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

14P-1-6

出版年月

2024年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	MNC2024 (37th International Microprocesses and Nanotechnology Conference)

開催地

和文:
英文: