"Ahmet Parhat,Wataru Hosoda,unknown unknown,Yoshihisa Ohishi,Kuniyuki KAKUSHIMA,KAZUO TSUTSUI,HIROSHI IWAI","Er Inserted Ni Silicide Metal Source/Drain for Schottky MOSFETs","IEEE IWJT 2010 Extended Abstracts 2010 International Workshop on Junction Technology",,,,,,2010,May
"細田亘,野口浩平,パールハットアヘメト,角嶋邦之,筒井一生,杉井信之,服部健雄,岩井洋","異種金属界面挿入によるNiシリサイドのショットキー障壁変調とSB-MOSFETへの応用","第56回応用物理学関係連合講演会","第56回応用物理学会予稿集","応用物理学会",,"No. 2","pp. 868",2009,Mar.
"細田亘,野口浩平,角嶋邦之,パールハットアヘメト,筒井一生,杉井信之,服部健雄,岩井洋","Er層界面挿入によるNiシリサイドのショットキー障壁変調とSB-MOSFETへの応用","秋季第69回応用物理学会学術講演会","秋季第69回応用物理学会学術講演会予稿集","応用物理学会",,"No. 2","pp. 751",2008,Sept.
"野口浩平,大石善久,角嶋邦之,パールハットアヘメト,筒井一生,杉井信之,服部健雄,岩井洋","Er層界面挿入によるNiシリサイドのショットキー障壁変調技術","春季第55回応用物理学会学術講演会","春季第55回応用物理学会学術講演会予稿集","応用物理学会",,"No. 2","pp. 879",2008,Mar.