"松浦賢太朗,清水淳一,外山真矢人,大橋匠,坂本拓朗,宗田伊理也,石原聖也,角嶋邦之,筒井一生,小椋厚志,若林整","大面積集積化に向けたスパッタ二次元半導体 MoS2 薄膜のTop-gate nMISFETs チャネル応用","応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第216回研究集会",,,,,,2019,Feb.
"松浦 賢太朗,清水 淳一,外山 真矢人,大橋 匠,宗田 伊理也,石原 聖也,角嶋 邦之,筒井 一生,小椋 厚志,若林 整","大面積集積化に向けたスパッタMoS2薄膜を用いたTop-Gate nMISFETs","第79回応用物理学会秋季学術講演会",,,,,,2018,Sept.
"K. Matsuura,J. Shimizu,M. Toyama,T. Ohashi,I. Muneta,S. Ishihara,K. Kakushima,K. Tsutsui,A. Ogura,H. Wakabayashi","Chip-Level-Integrated nMISFETs with Sputter-Deposited-MoS2 Thin Channel Passivated by Al2O3 Film and TiN Top Gate","2018 IEEE 2nd Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM)","2018 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference, EDTM 2018 - Proceedings",,,,"pp. 104-106",2018,Mar.
"大橋 匠,坂本 拓朗,松浦 賢太朗,清水 淳一,外山 真矢人,石原 聖也,日比野 祐介,宗田 伊理也,角嶋 邦之,筒井 一生,小椋 厚志,若林 整","Migration制御したスパッタリング法による2次元層状MoS2成膜","第65回応用物理学会春季学術講演会",,,,,,2018,Mar.
"M. Toyama,T. Ohashi,K. Matsuura,J. Shimizu,I. Muneta,K. Kakushima,K. Tsutsui,H. Wakabayashi","TiN/Ti Ohmic Contact for Sputtered-MoS2 Film using Forming-Gas Annealing","Advanced Metallization Conference 2017: 27th Asian Session",,,,,,2017,Oct.
"外山 真矢人,大橋 匠,松浦 賢太朗,清水 淳一,宗田 伊理也,角嶋 邦之,筒井 一生,若林 整","スパッタリング法で堆積したMoS2薄膜へのコンタクト抵抗と熱処理依存性","第64回応用物理学会春季学術講演会",,,,,,2017,Mar.