国際会議発表 (査読なし・不明)

• Lin, A. Tanaka, N. Ishizaki, A. Nishiyama, N. Wakiya, J. S. Cross, T. Shiota, O. Sakurai, K. Shinozaki. Optimization of Deposition Conditions of a-Al2O3 Thin Films by Low Pressure MOCVD Using Al(CH3)3, The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8), Abstract book of The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8), 26pKP27, June 2014.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 田中 敦, 宇津木貴太, 石崎超矢, 西山昭雄, 塩田 忠, 櫻井 修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹. Al(CH₃)₃を原料とするMOCVD法によるAl₂O₃薄膜の製膜過程, 日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会, 日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集, 2A04, Sept. 2013.
• 石崎超矢, 田中 敦, 西山昭雄, 塩田 忠, 櫻井 修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹. MOCVD法によるSi基板上へのアルミナ薄膜の形成, 日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会, 日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集, 2P10, p. 50, Oct. 2012.

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