@inproceedings{CTT100567350,
  author = {パールハット アヘメト and 筒井一生 and 角嶋邦之 and 杉井 信之 and 知京 豊裕 and 服部健雄 and 長田 貴弘 and 岩井洋},
  title = {高濃度n+-Si 及びp+-Si基板上のNiシリサイドの熱安定性の違い},
  booktitle = {春季第55回応用物理学会学術講演会予稿集},
  year = 2008,
}