国際会議発表 (査読なし・不明)

• Jun Kanehara, Yusuke Takei, Youhei Miyata, Hiroshi Nohira, Y. Izumi, TAKAYUKI MURO, 木下豊彦, パールハットアヘメト, Kuniyuki KAKUSHIMA, KAZUO TSUTSUI, takeo hattori, HIROSHI IWAI. Depth Profiling of As with Various Chemical Bonding States Doped in Si Shallow Junction by Using Soft X-ray Photoelectron Spectroscopy, G-COE PICE International Symposium and IEEE EDS Minicolloquium on Advanced Hybrid Nano Devices: Prospects by World’s Leading Scientists, 2013.
• Kouhei Akita, Jun Kanehara, Hiroshi Nohira, Y. Izumi, TAKAYUKI MURO, 木下豊彦, パールハットアヘメト, Kuniyuki KAKUSHIMA, KAZUO TSUTSUI, takeo hattori, HIROSHI IWAI. [517] Y. Miyata, K. Akita, J. Kanehara, H. Nohira, Y. Izumi, T. Muro, T. Kinoshita, P. Analysis of Boron Doped in Si Fin Structure by Soft X-ray Photoelectron Spectroscopy, G-COE PICE International Symposium and IEEE EDS Minicolloquium on Advanced Hybrid Nano Devices: Prospects by World’s Leading Scientists, 2013.
• Youhei Miyata, Jun Kanehara, Hiroshi Nohira, Y. Izumi, T. Muro, 木下豊彦, パールハットアヘメト, Kuniyuki KAKUSHIMA, KAZUO TSUTSUI, takeo hattori, HIROSHI IWAI. Soft X-ray Photoelectron Spectroscopy Study of Boron Doped on Top Surfaces and Sidewalls of Si Fin Structures, 2012 12th International Workshop on Junction Technology(IWJT2012), 2012.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 金原潤, 宮田陽平, 秋田洸平, 筒井一生, 野平博司, 室隆桂之, 木下豊彦, パールハットアヘメト, 角嶋邦之, 服部健雄, 岩井洋. Si中に極浅ドープされたAsの軟X線光電子分光による化学結合状態の検出とその深さ方向分布, 第72回応用物理学会学術講演会, 2011.
• 田中正興, 金原潤, 宮田陽平, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 室隆桂之, 木下豊彦, 野平博司, 筒井一生, 室田 淳一, 服部健雄, 岩井洋. Siエピタキシャル層にドープされたボロンの軟X線光電子分光, 第７１回応用物理学会学術講演会, Sept. 2010.
• 星野憲文, 中川恭成, 野平博司, 室 隆桂之, 加藤 有香子, 甲斐隆行, 金成国, パールハットアヘメト, 角嶋邦之, 水野文二, 木下 豊彦, 筒井一生, 服部健雄, 岩井洋. 光電子分光によるSi中Asの化学結合状態評価, 第56回応用物理学関係連合講演会, 第56回応用物理学関係連合講演会予稿集, 応用物理学会, No. 2, pp. 883, Mar. 2009.

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